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中國據(jù)報成功打造EUV光刻機原型,被形容為“中國曼哈頓計劃”

發(fā)布時間:2025-12-18 09:42

據(jù)路透引述消息報道,中國科學家今年初在深圳實驗室打造出了一部極紫外光(EUV)光刻機的原型機,目前正在測試階段,體積幾乎占滿整個工廠樓層,可生產(chǎn)驅(qū)動人工智能(AI)、智能電話和先進武器的芯片。

中國據(jù)報成功打造EUV光刻機原型

報道指出,這項被形容為“中國曼哈頓計劃”的秘密工程項目,突顯中國銳意在AI芯片技術(shù)領(lǐng)域與西方匹敵。至于所謂“曼哈頓計劃”,即美國秘密研制原子彈的戰(zhàn)時計劃。

報道又指,這部EUV光刻機由荷蘭芯片設(shè)備制造商ASML前工程師團隊打造,對ASML生產(chǎn)的EUV光刻技術(shù)進行了逆向工程?,F(xiàn)時該部中國EUV光刻機已能運行并成功產(chǎn)生極紫外光,但尚未生產(chǎn)出可用的芯片,而中國的目標是在2028年前實現(xiàn)原型機芯片生產(chǎn),但項目相關(guān)人士表示,更有可能到2030年才實現(xiàn)量產(chǎn)。

來源︱星島頭條網(wǎng)
編輯︱胡影雅