內(nèi)地工信部近日宣布，研發(fā)出首臺國產(chǎn)深紫外光曝光機（DUV），可生產(chǎn)8納米及以下芯片，目前正在推廣應用。
工業(yè)和信息化部官網(wǎng)9日公布“首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）”的通知，下發(fā)地方要求加強產(chǎn)業(yè)、財政、金融、科技等國家支持政策的協(xié)同。
工信部稱，重大技術裝備是國之重器，事關綜合國力和國家安全?！爸袊着_（套）重大技術裝備”是指國內(nèi)實現(xiàn)重大技術突破、擁有智慧財產(chǎn)權、尚未取得明顯市場業(yè)績的裝備產(chǎn)品，包括整機設備、核心系統(tǒng)和關鍵零部件等。
這份目錄顯示，在集成電路生產(chǎn)裝備，其中一項是“氟化氬光刻機”（DUV曝光機），核心技術指標是“晶圓直徑300mm，照明波長248nm，分辨率≦65nm，套刻≦8nm”。這也代表，這臺國產(chǎn)DUV可生產(chǎn)8納米及以下芯片。至于國產(chǎn)DUV曝光機的良率則未見提及。
據(jù)內(nèi)地科技自媒體今天轉(zhuǎn)發(fā)消息后稱，中國自己的DUV曝光機終于來了，雖然與荷蘭ASML曝光機存在代差，至少己填補空白，可控可用，期待之后能研發(fā)出更先進的極紫外光曝光機（EUV）。
美國5日才宣布收緊制造先進半導體設備所需機器的出口管制，荷蘭政府隔天跟進，宣布擴大限制半導體制造設備出口。
中國若實現(xiàn)國產(chǎn)8納米及以下制程DUV，未來絕大多數(shù)芯片制造，將不用受制于ASML。不過，截至目前，尚無中國官方與廠商宣布這項消息。
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