ASML危險(xiǎn)了？中國(guó)曝光機(jī)研發(fā)大突破，神秘背景曝
受美國(guó)技術(shù)封鎖影響，中國(guó)無(wú)法取得阿斯麥（ASML）最先進(jìn)的極紫外光（EUV）設(shè)備。然而，成立僅4年的深圳芯片設(shè)備商新凱來(lái)，近日首度公開(kāi)展示28奈米級(jí)300 毫米晶圓光刻技術(shù)，展現(xiàn)大陸在先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的自主研發(fā)成果，引發(fā)全球產(chǎn)業(yè)高度關(guān)注。
綜合外媒報(bào)導(dǎo)，新凱來(lái)于上海SEMICON China 2025 半導(dǎo)體展會(huì)上，展出包含原子層沉積（ALD）、化學(xué)氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）、蝕刻、退火等關(guān)鍵制程的設(shè)備。盡管未展示光刻設(shè)備，但據(jù)了解，新凱來(lái)已成功研發(fā)適用于300毫米晶圓的28奈米浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)，技術(shù)與國(guó)際主流設(shè)備供應(yīng)商不相上下。
新凱來(lái)與華為合作開(kāi)發(fā)的28奈米光刻機(jī)，主要是為了取代包括 ASML 在內(nèi)的國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備大廠，提升自主性，突破美國(guó)政府對(duì)先進(jìn)芯片設(shè)備的出口管制措施。
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)分析師王磊表示，28奈米是成熟制程與先進(jìn)制程的分水嶺，也是中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備廠商必須突破的難關(guān)。新凱來(lái)的技術(shù)突破，代表中國(guó)的國(guó)產(chǎn)設(shè)備在關(guān)鍵制程領(lǐng)域取得了重大進(jìn)展。
新凱來(lái)成立于2021年8 月，由深圳市政府資助，致力于開(kāi)發(fā)半導(dǎo)體制造相關(guān)設(shè)備，在北京、上海、西安等地設(shè)立研發(fā)中心，并從業(yè)界挖角頂尖技術(shù)人才，網(wǎng)羅曾在ASML、應(yīng)用材料、科林研發(fā)（Lam Research）、東京威力科創(chuàng)（Tokyo Electron）等國(guó)際大廠的優(yōu)秀工程師。
盡管成立僅 4 年，新凱來(lái)已展現(xiàn)出強(qiáng)烈的市場(chǎng)企圖心，其客戶名單囊括了中芯國(guó)際、華虹集團(tuán)等中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的龍頭晶圓廠。不只如此，新凱來(lái)部分蝕刻設(shè)備已在功率半導(dǎo)體產(chǎn)線實(shí)現(xiàn)批量應(yīng)用。
展望未來(lái)，新凱來(lái)計(jì)劃在未來(lái)3年內(nèi)將研發(fā)中心拓展至10個(gè)以上的城市，更將在歐洲和東南亞設(shè)立技術(shù)服務(wù)中心，提供客戶專業(yè)支援，擴(kuò)大其全球影響力。
來(lái)源：中時(shí)新聞網(wǎng)
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