臺(tái)積電突曝1罕見(jiàn)舉動(dòng)！外媒急拋警告，恐淪死敵悲劇下場(chǎng)
半導(dǎo)體大廠艾司摩爾ASML推出最新高數(shù)值孔徑極紫外光EUV曝光機(jī)，馬上被英特爾采用，但臺(tái)積電仍在觀望。外媒認(rèn)為此事將是英特爾重拾霸主地位的狹窄破口，如同當(dāng)年英特爾并未馬上搶進(jìn)第一代EUV機(jī)臺(tái)，而臺(tái)積電大舉投資EUV設(shè)備。
美國(guó)科技媒體wccftech報(bào)導(dǎo)，英特爾打算在18A（1.8奈米）制程中試驗(yàn)ASML的高數(shù)值孔徑極紫外光EUV技術(shù)，甚至考慮直接應(yīng)用在14A（1.4奈米）的制造流程中。
相較之下，臺(tái)積電并未跟進(jìn)，原因可能是考量每臺(tái)高數(shù)值孔徑EUV微影機(jī)的高昂成本，每臺(tái)售價(jià)高達(dá)3.85億美元相當(dāng)可觀。
外媒示警，臺(tái)積電可能會(huì)重蹈英特爾的覆轍，先前英特爾就因?yàn)楸Ｊ氐呢?cái)務(wù)政策，推遲大舉投資EUV機(jī)臺(tái)的時(shí)間點(diǎn)，臺(tái)積電則在那區(qū)間大舉投資，一下子就拉開(kāi)技術(shù)差距，收獲甜美果實(shí)。
即使如此，外媒也提到，英特爾執(zhí)行長(zhǎng)季辛格（Pat Gelsinger）將逆轉(zhuǎn)勝的關(guān)鍵寄托在最新的EUV機(jī)臺(tái)，其實(shí)部分成本是由美國(guó)人共同承擔(dān)，英特爾拿到巨額芯片法案補(bǔ)助，讓英特爾將成本社會(huì)化，當(dāng)然后續(xù)成果也受到美國(guó)社會(huì)高度檢視。
來(lái)源：中時(shí)新聞網(wǎng)
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